24小时服务热线
18790282122
可控硅整流机的工作原理 百度文库
可控硅整流机是一种重要的电力电子设备，通过控制可控硅的导通和关断，实现对交流电源的整流和调节。. 它的工作原理基于可控硅器件的特性，通过改变触发角来实现对输出电压 先知弈者 一、工业硅——新兴产业之源 金属硅又称工业硅，生产流程分为选矿、材料石以及冶炼三大部分。 其中选矿和采石是整个冶炼过程中基础也是最重要的一部分，硅石纯度质量将直接影响成品工业 一文了解工业硅上下游全部冶炼过程以及其产成品应用
了解更多
硅压力传感器工作原理 百度文库
硅压力传感器（Silicon Pressure Sensor）是一种常用的压力测量装置，广泛应用于工业生产、航空航天、汽车制造等领域。. 它的工作原理基于硅材料的压阻效应，通过测量硅芯片 可控硅控制加热器的工作流程一般包括以下几个步骤：. 1. 输入控制信号：通过控制系统向可控硅发送触发脉冲信号，控制脉冲的时间和幅度可以决定可控硅的导通角度和电流大小 可控硅控制加热器原理 百度文库
了解更多
可控硅控制器 百度百科
js3000@可控硅控制器与带0-5V、4-20mA的智能PID调节器或PLC配套使用；主要用与工业电炉的加热控制、大型风机水泵软启动节能运行控制、。 负载类型可以 工业硅开堵眼机工作原理详解 1. 引言 工业硅开堵眼机是一种用于清洗和修复硅晶圆上的孔洞或裂纹的设备。 它在半导体制造过程中扮演着重要角色，能够提高产品质量和产能。 本 工业硅开堵眼机工作原理 百度文库
了解更多
工业硅工艺流程 百度文库
工业硅工艺流程 “全油焦”生产方法和工艺具有以下特点： 一是配方科学，确保固定碳含量高且稳定，使石油焦中的C和硅石中的SiO2最大限度的发生氧化、还原反应，破环和降低 硅在颅内被还原出来，并呈液态，通过出硅口放出并铸成硅锭，经过破碎、包装成工业硅 粉销售 相关内容非法爬取自百度经验 3 /3 采用氧气和空气混和底吹的方 工业硅生产工艺流程-百度经验
了解更多
硅熔炼_百度百科
硅熔炼(silicon smelting)是指用碳质还原剂还原硅矿石产出元素硅的过程。硅的工业产品有精制工业硅、多晶硅、单晶硅三种。硅熔炼一般是指粗硅的生产。硅熔炼在电弧炉中进行，因以电弧作为高温热 主要用于生产硅铁、锰铁、铬铁、钨铁、硅铁等铁合金，是冶金工业中重要的工业设备和电石等机械设备。 那么，压力环的工作原理是什么呢？ 电极把持器系统是矿热炉的核心部件，电极把持器系统的结构 压力环的工作原理是什么呢？
了解更多
【好书推荐】从石头到宝藏——工业硅的浴火重生_的生产
截至2019年，我国工业硅年产能为482万吨，年产量为220万吨。新疆为我国工业硅产量第一的省份，2019年产量达97万吨，云南、四川产量位列第二和第三，三省（区）总产量达到170万吨。 我国发展工业硅行业具有得天独厚的优势： 所有原材料不需要 从成本构成看，每生产1吨工业硅大约需要消耗2.7-3吨硅石，2吨炭质还原剂，0.1-0.13吨电极。. 同时，冶炼过程还需要消耗大约11000-13000度电能。. 除上述原材料及耗电成本外，还包括一些其他费用，比如维护费用、折旧、人工成本等。. 成本构成中，硅 工业硅冶炼原材料及成本构成剖析
了解更多
【好书推荐】从石头到宝藏——工业硅的浴火重生_的生产
本书全面介绍了硅及工业硅的基本性质、用途、标准以及工业硅行业的现状及发展趋势；详细阐述了工业硅生产的基本原理、原料、设备、操作、精炼、设计及辅助设备；介绍了工业硅生产的环保与节能技术，包括除尘及脱硫脱硝、烟气硅熔炼原料中的Al2O3、Fe2O3、CaO等在熔炼过程中未能全部还原，它们与SiO2形成熔渣，这种熔渣大多呈单一积聚体形式在出硅时与液硅分离，小部分呈细小颗粒混杂于液硅中形成粗硅的杂质。硅精炼_百度百科
了解更多
可控硅的工作原理及作用 功率器件 电子发烧友网
可控硅的工作原理及作用- 可控硅简称SCR，是一种大功率电器元件，也称晶闸管。它具有体积小、效率高、稳定性好、工作可靠等优点。在自动控制系统中，可作为大功率驱动器件，实现用小功率控件控制大功率设备。它的出现，使半导体技术从弱电领域进入了强电领域，成为工业、农业、交通运输工业硅工艺流程. 精炼工艺：为使精炼过程顺利完成，本工艺采用氧气和空气混和底吹的方式，底吹氧的透气砖安装在包底中，透气砖内有较多的细铜管，氧气和空气从细铜管中吹向硅熔液实施精炼，空气在吹氧完毕后亦通过透气砖向硅熔液中形成正压。. 精炼工业硅工艺流程 百度文库
了解更多
硅胶挤出机结构组成，工作流程以及应用！
二、硅胶挤出机的工作流程解析. （5）选配好模套、模芯。. （4）把线芯穿过模芯与引线连接，引线穿过烘套过火花机过粉子箱，在牵引轮上缠绕3~4圈，然后将引线固定在收线盘上；. （5）校模：启动螺杆，缓慢旋转调速电位器，挤出胶料后，即可进行校 设备工作原理. 雷达波的频率越高，发射角越小，单位面积上能量（磁通量或场强）越大，波的衰减越小，雷达料位计的测量效果越好。. 雷达料位计组成：它主要由发射和接收装置、信号处理器、天线、操作面板、显示、故障报警等几部分组成。. 发射－反射设备工作原理_百度文库
了解更多
工业硅工艺流程 百度文库
工业硅工艺流程. 一是配方科学，确保固定碳含量高且稳定，使石油焦中的C和硅石中的SiO2最大限度的发生氧化、还原反应，破环和降低碳化硅的形成和一氧化硅的排放，从而提高了产品产量、保证了质量的稳定性。. 二是采用和掌握了低电流高电压操作技术2、为了满足高纯度的需要，必须进一步提纯。. 把工业硅粉碎并用无水氯化氢（HCl）与之反应在一个流化床反应器中，生成拟溶解的三氯氢硅（SiHCl_）。. 其化学反应Si+HCl→SiHCl_+H_↑，反应温度 透视多晶硅：一文深入揭秘多晶硅及其生产工艺
了解更多
工业硅
商业上，硅通常是在石墨电极的电弧炉中由高纯度的二氧化硅和焦炭反应得到的，这种方法得到的硅纯度至少为95％，被称为工业硅 (metallurgicalgradesilicon，mg-si)。. 但是，要制成太阳能电池，有些杂质元素的含量不能超过1ppm。. 为了满足日益增长的对有太阳能级硅俗话说得好：“没有金刚钻，别揽瓷器活"。. 对于芯片而言，这里的金刚钻当然不止光刻机一种，被称为现代电子工业灵魂的CMP工艺也是其中之一：. 芯片制程越先进，对硅片质量的要求就越高，晶圆制造就需要对硅片表面进行平坦化处理，CMP是目前最有 芯片制造也需要磨刀石？CMP工艺究竟是什么？
了解更多
工业硅锭破碎设备的实验研究_百度文库
工业硅锭破碎设备的实验研究. 周开亮;杨云山;赵兴凡;张金清;周杰;陈科彤. 【摘 要】随着工业硅市场需求的不断增大,原有的人工破碎工业硅方式已经不能适应生产的需求,现有的机械化破碎则存在不合格硅粒率过大的问题,通过鄂式破碎机工作区动、静破碎板结构平直型真空吸盘的工作原理如图1所示。首先将真空吸盘通过接管与真空设备(如真空发生器等,图中没画出) 接通,然后与待提升物如玻璃、纸张等接触,起动真空设备抽吸,使吸盘内产生负气压,从而将待提升物吸牢,即可开始搬送待提升物。 当待提升物搬送到目的地时,平稳地充气进真空吸盘内,使真空真空吸盘_百度百科
了解更多
硅粉过滤除尘器_海韵环境
硅粉过滤除尘器. 一：方案设计及设计范围1.1概述硅粉又叫硅灰，是工业电炉在高温熔炼工业硅及硅铁的过程中，在逸出的烟尘中，SiO2含量约占烟尘总量的90%，颗粒度非常小，平均粒度几乎是纳米级别，故称为硅粉1.2硅粉烟尘除尘尾气过滤的工作原理是粉尘通过我国工业硅厂采用的矿热炉工作原理是：三根碳素电极深埋至电弧炉炉膛底部，通电加热，电弧熔化硅石、无烟煤、石油焦等炉料后，液体单质硅水从炉膛底部出硅嘴自然液压流出。 其化学反应分子式为SiO2+C→Si+CO2↑。硅含量高于98%的一吨441标号在12500KVA三电极深埋式电弧炉工业硅生产线上矿热炉硅氚
了解更多
多晶硅的生产工艺流程及有关设备有哪些？_百度知道
展开全部. 多晶硅的生产工艺流程及有关设备有：. 1、多晶硅生产主要关键设备（在改良西门子法中）：氯化氢合成炉，三氯氢硅沸腾床加压合成炉，三氯氢硅水解凝胶处理系统，三氯氢硅粗馏、精馏塔提纯系统，硅芯炉，节电还原炉，磷检炉，硅棒切断机工业硅分析方法及研究进展-目前X射线荧光光谱法应用于工业硅中主要检测的杂质元素为铁、铝、钙三种元素。 其中压片机压力保持在20 kN，保压时间25 s。进行了短期稳定实验和长期稳定实验，并与化学分析方法比对，取得了可靠的分析方法。工业硅分析方法及研究进展_百度文库
了解更多
理解可控硅的工作原理和多种功能 ROHM技术社区 eefocus
可控硅（Silicon Controlled Rectifier），简称SCR，是一种高功率半导体器件，具有四层结构和三个PN结。它通常由两个晶闸管反向连接而成。可控硅具有体积小、效率高和寿命长等优点，在自动控制系统中可以作为大功率驱动器件，通过使用小功率控制信号实现对大功率设备的控制。摘要：介绍了硅棒在线切割后的脱胶工艺技术，分析了硅片脱胶的技术发展和难点，通过介绍主要工艺设备的工作原理 来剖析脱胶技术的现状以及未来发展的趋势。 硅片表面的洁净度是影响硅片合格率和电池转换效率的关键因素。为获得洁净度硅片脱胶技术研究
了解更多
芯片制造系列（一）——从沙子到硅片 一、制造芯片的主要
一、制造芯片的主要流程. 沙子（SiO2）还原成硅锭，再经过提纯和直拉法，取出硅棒，进行切割研磨和抛光，片出硅片，再送往晶圆厂，通过光刻和蚀刻，雕刻出晶体管的物理结构，并通过离子注入和覆膜等手段，赋予其电特性，这样数以亿计的电子器件及其工业纯水设备新工艺一: 原水 (设有压力保护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→软化器 (根据地区不合选用)→精密过滤器 (或称保安过滤器)→两头水箱→RO前水泵→紧密过滤器 (或称保安过滤器)→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端 工业纯水设备系统的新工艺流程（详细说明）
了解更多
外延炉设备工作原理_百度文库
外延炉设备的工作原理是将气态材料沉积在晶片表面形成所需的薄膜。. 它具有重要的应用价值，在半导体工业中发挥着重要的作用。. 在沉积阶段，需要将气态材料输送到反应室中，并通过化学反应与晶片表面发生反应，从而沉积在晶片表面。. 这通常是通过向工业硅产业链示意图 近日，昆明理工大学马文会教授课题组系统的总结了湿法冶金技术在工业硅提纯应用的研究进展，阐明了工业硅中各主要杂质的赋存特性，介绍了工业硅湿法除杂的基本原理，系统归纳了强化工业硅湿法除杂的方法，并给出了湿法冶金技术提纯工业硅的一些设计原则以及今后的昆明理工《Hydrometallurgy》特邀综述：工业硅提纯！
了解更多
一种工业硅冶炼自动出硅方法与流程 X技术网
1.本发明涉及工业硅冶炼技术领域，尤其涉及一种工业硅冶炼自动出硅方法。. 2.工业硅是在矿热炉中由碳还原二氧化硅而制得产品，炉前出硅是工业硅冶炼过程的重要工序之一，是将矿热炉内还原熔炼产出的高温硅熔体经过出硅口 (炉眼)排出炉外。. 出硅包括 5.2大容量半密闭式12500KVA工业硅矿热炉的设计. 目前工业硅生产中能源节约途径主要有：1）炉型的大型化方向；2）炉型的密闭化方向；3）余热利用化方向；4）提高炉子电效率措施如改进短网结构设计、改善变压器性能、改善电参数、采用低频电源等；5）提高工业硅矿热炉的设计说明 百度文库
了解更多
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用
用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。 从半导体芯片制作工艺流程来说，位于前道工艺中。 薄膜制备工艺 按照其成膜方法可分为两大类： 物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD）， 其中 CVD工艺设备占比更高。
了解更多